真空腔室L400×W440×H450mm,采用SUS304优质不锈钢
观察窗Φ100mm,含磁力挡板
屏蔽板不锈钢,便于拆卸清洁、更换
水冷蒸发电极8根组成4组
金属蒸发电源功率3kW
复合分子泵JTFB-650Z脂润滑分子泵,抽速650L/s
直联高速旋片式真空泵TRP-36,抽速9L/s
气动高真空插板阀DN150
前级阀/旁路阀DN40
放气阀φ10 电磁充气阀
数显复合真空计两低一高,含规管
波纹管、真空管道材质SUS304不锈钢
热蒸发手套箱一体机是一种用于材料科学、半导体制造和其他高科技领域的设备。它结合了手套箱和热蒸发装置的功能,能够在受控的惰性气体环境中进行材料的蒸发沉积。
其主要特点和功能包括:
1. **惰性环境控制**:手套箱提供氮气、氦气或其他惰性气体环境,以防止材料氧化或与水分反应,确保实验过程的稳定性。
2. **热蒸发**:设备内置热蒸发源,通过加热材料(如金属、氧化物等),将其蒸发并沉积到基材上,形成薄膜。
3. **的膜厚控制**:通常配备膜厚监测仪器,能够实时监测沉积膜的厚度,以确保达到所需的膜特性。
4. **易于操作**:操作者可以通过手套箱的手套进行操作,避免直接接触反应材料,同时保护用户安全。
5. **多功能性**:一些一体机可能集成其他功能,如清洗、退火等,满足不同应用需求。
这种设备广泛应用于光电材料、传感器、太阳能电池以及其他需要高精度薄膜沉积的领域。
热蒸发手套箱一体机是一种用于材料制备和微纳米技术研究的设备,主要功能包括:
1. **真空环境控制**:手套箱内可维持低压或真空状态,防止材料氧化或水分污染。
2. **热蒸发源**:通过加热材料,使其蒸发并在基片上沉积,以形成薄膜或纳米结构。
3. **气氛控制**:可以根据需要调节手套箱内的气氛,比如惰性气体(氮气、氩气)环境,以保护敏感材料。
4. **样品处理**:提供多种方式处理样品,包括加热、冷却、刻蚀等。
5. **厚度控制**:配备的监测系统,可实时监测并控制薄膜的厚度。
6. **操作安全性**:手套箱设计确保操作人员在处理有害或敏感材料时的安全。
7. **自动化系统**:部分型号具备自动化操作功能,提高实验效率并减少人为误差。
8. **配备监测设备**:可以与仪器(如电子显微镜、X射线衍射仪等)联用,进行材料性质分析。
总之,热蒸发手套箱一体机是多功能且的材料制备设备,广泛应用于半导体、光电材料、薄膜技术等领域。

热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于电子、光学、材料科学等领域。其主要特点包括:
1. **高纯度材料沉积**:通过热蒸发可以有效地沉积高纯度的薄膜,减少杂质的影响。
2. **良好的膜质量**:热蒸发镀膜技术能够形成均匀且致密的薄膜,具备较好的光学和电气性能。
3. **高沉积速率**:相较于其他镀膜技术,热蒸发具有较高的沉积速率,适合大规模生产。
4. **温度控制灵活**:设备通常配备精密的温度控制系统,可以根据不同材料的特性调整加热温度。
5. **适用广泛**:可以镀覆多种材料,如金属、合金、半导体及绝缘材料等,适用性强。
6. **工艺简单**:热蒸发镀膜工艺相对简单,易于操作和控制。
7. **真空环境**:通常在真空环境中进行,有效减少气体污染,提高膜层质量。
8. **设备投资较低**:相对于其他镀膜设备(如磁控溅射镀膜机),热蒸发镀膜机的设备成本相对较低。
9. **可控性强**:可以通过改变蒸发源的距离、功率和基片温度等来调节膜层的厚度和属性。
总之,热蒸发镀膜机是一种、灵活且经济的薄膜沉积设备,适合应用需求。

蒸发舟是用于蒸发物质的一种设备,广泛应用于薄膜制备、材料合成和真空蒸发等领域。在蒸发过程中,蒸发舟在高温下加热,使得固体颗粒转变为气态,从而形成薄膜或其他材料。
蒸发舟蒸发颗粒的特点主要包括以下几个方面:
1. **粒度均匀性**:蒸发舟通常能够提供比较均匀的加热,从而使得蒸发出来的颗粒在粒度上保持一致,有助于提高材料的性能。
2. **高纯度**:在真空条件下进行蒸发,能够有效减少杂质的引入,从而提高所得到的薄膜或颗粒的纯度。
3. **可控性强**:通过调整温度、压力和蒸发时间,可以控制颗粒的蒸发速率和终的结构特性。
4. **形成薄膜的能力**:蒸发过程中,颗粒在冷却后会凝结形成薄膜,具有良好的附着性和均匀性。
5. **适用范围广**:可适用于多种材料,例如金属、氧化物、氮化物等,应用于电子器件、光学涂层等领域。
6. **重现性好**:蒸发过程中条件可重复,且易于实现规模化生产,能够满足工业应用的需求。
综上所述,蒸发舟蒸发颗粒具备均匀性、高纯度、可控性强及适用范围广等优点,使其在材料科学和工程领域中具有重要的应用价值。

热蒸发镀膜机是一种用于薄膜沉积的设备,广泛应用于材料科学、光电器件制造、表面改性等领域。其主要功能包括:
1. **薄膜沉积**:通过热蒸发过程将材料(如金属、半导体或绝缘体)加热温,使其蒸发并在基材表面沉积形成薄膜。
2. **膜层控制**:可控制沉积速率和膜层厚度,以满足不同应用的要求。
3. **真空环境**:在高真空条件下操作,减少气体分子对蒸发材料的干扰,从而提高膜层质量。
4. **材料多样性**:能够使用多种不同的蒸发材料,满足不同材料系统的需求。
5. **均匀性**:能够实现均匀的膜层沉积,适用于大面积基材的镀膜。
6. **兼容性**:可以与其他镀膜技术(如溅射、化学气相沉积等)结合使用,以实现更复杂的薄膜结构。
7. **自动化与监控**:许多现代热蒸发镀膜机配备了自动化控制系统和监测仪器,方便实时监控沉积过程。
通过这些功能,热蒸发镀膜机在电子器件、光学元件、传感器等领域中扮演着重要角色。
束源炉(也称为束流炉或电子束炉)是利用高能电子束在真空环境中进行加热和熔化材料的设备。其适用范围广泛,主要包括以下几个方面:
1. **金属冶炼与铸造**:束源炉可以用于高熔属的熔化,如钨、铼等稀有金属。此外,它也适用于铸造合金,特别是在需要控制合金成分时。
2. **材料加工**:束源炉常用于金属的热处理、表面处理和焊接等工艺。由于电子束的能量集中,可以实现高温熔化和快速冷却,提高材料的力学性能。
3. **电子元件制造**:在某些电子器件的制造过程中,束源炉可以用来处理半导体材料,以提高其性能和可靠性。
4. **真空镀膜**:束源炉可以用来蒸发和沉积薄膜材料,广泛应用于光学涂层、电子器件及功能性薄膜的制备。
5. **核能和领域**:束源炉在核材料的处理和器材料的加工中也发挥着重要作用,特别是在需要特殊材料或高温条件下的应用。
总的来说,束源炉因其、高温、的特点,在多个制造领域都得到了广泛应用。
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